The plasma diagnostics of the RF torch discharge plasma chemical system

Varování

Publikace nespadá pod Lékařskou fakultu, ale pod Přírodovědeckou fakultu. Oficiální stránka publikace je na webu muni.cz.
Autoři

ŠÍCHA Miloš KAPIČKA Vratislav BRABLEC Antonín KLÍMA Miloš SLAVÍČEK Pavel VACULÍK Robert BEHNKE J.F.

Rok publikování 2000
Druh Článek ve sborníku
Konference International Symposium, on High Pressure Low Temperature Plasma Chemistry- HAKONE VII, Greifswald-Germany 2000, Contributed Papers
Fakulta / Pracoviště MU

Přírodovědecká fakulta

Citace
Obor Fyzika plazmatu a výboje v plynech
Klíčová slova Torch discharge plasma; surface treatmnet; plasma diagnostics
Popis The possibility to use of special configuration of the torch discharge burning in mixture of argon and n-hexan for deposition of CH thin films on Al and Cu substrate is reported. Basic parameters of the diacharge is studied using emission spectroscopy.
Související projekty:

Používáte starou verzi internetového prohlížeče. Doporučujeme aktualizovat Váš prohlížeč na nejnovější verzi.

Další info